MegaGen International Symposium 2017

Het is ons een genoegen u uit te nodigen voor de dertiende editie van het MegaGen International Symposium, dat dit jaar plaatsvindt op zaterdag 14 en zondag 15 oktober 2017. Na eerdere edities in wereldsteden als Moskou en New York vindt deze editie plaats in de grootste stad ter wereld: het Japanse Tokio.

MegaGen International Symposium 2017

Het thema van het symposium van dit jaar is Digital Smile, waarbij het onder andere gaat over het heden en de toekomst van de implantologie, eigen boormallen vervaardigen met behulp van R2GATE, de Root Membrane Technique en het MegaGen AnyRidge implantaatsysteem.

Workshops zaterdagochtend 14 oktober

Op zaterdagochtend 14 oktober vinden twee interessante workshops plaats: ‘Root Membrane Technique’ door Dr. Mitsias E. Miltiadis en Dr. Chang Hoon Han, en ‘R2GATE’ door Dr. Jong Cheol Kim.

Symposium zaterdag 14 en zondag 15 oktober

Op zaterdagmiddag – aansluitend aan de workshops – en zondag de gehele dag, vindt het wetenschappelijk symposium plaats, met sprekers als Eric-Jan Royakkers, Dr. Kwang Bum Park, Dr. Jong Cheol Kim, Prof. Antonio Barone, Dr. Henry Takei, Dr. Homa Zadeh, Dr. Joseph Kan, Dr. Neal Patel, Dr. Scott D. Ganz, Prof. Thomas Han, Dr. Yoshiharu Hayeshi, Dr. Takashi Nakayama, Dr. Yusuke Kawazoe, Dr. Seiji Aruga, Dr. Miguel Stanley en Dr. Hideo Kawahara.

Inschrijven en meer informatie

Deelnemen kan vanaf $ 450,00* (op basis van registratie van één persoon zonder reis en verblijf). Dit is inclusief deelname aan het congres (1,5 dag), pauzes, een ticket voor de loterij en een ticket voor de MegaGen Night.

Op deze symposiumpagina vindt u alle mogelijkheden en meer informatie over het symposium. U kunt daar geheel vrijblijvend uw gegevens achterlaten. Wij nemen dan contact met u op om samen met u alle mogelijkheden door te nemen en uw inschrijving desgewenst compleet te maken. 

* U ontvangt een factuur in euro’s, gebaseerd op de wisselkoers geldend op het moment van facturatie.

Video